[实用新型]一种溅射装置的制程反应室及溅射装置有效
| 申请号： | 201720541487.3 | 申请日： | 2017-05-16 |
| 公开（公告）号： | CN207632874U | 公开（公告）日： | 2018-07-20 |
| 发明（设计）人： | 龙俊舟;封铁柱;杨弘;马山州 | 申请（专利权）人： | 武汉新芯集成电路制造有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/14 | 分类号： | C23C14/14;C23C14/34;H01L21/67 |
| 代理公司： | 上海申新律师事务所 31272 | 代理人： | 俞涤炯 |
| 地址： | 430205 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种溅射装置的制程腔体及溅射装置，包括：反应室主体，包括相互平行设置的两个侧壁板以及连接两个侧壁板的底部板，侧壁上设有孔洞，孔洞的内壁顶部设有与侧壁连接的气体源，气体源连接有点燃装置，孔洞的内壁底部垂直连接有有起辉面，底部板位于制程空间内的一侧连接有基材；孔洞的直径为标准直径的两倍，起辉面上设有喷砂层。本实用新型的有益效果：通过设置气体源和起辉面之间的距离为预设距离，能够避免等离子体损伤起辉面导致起辉面上产生微粒，通过在起辉面上设置粗糙层，进一步避免等离子体损伤起辉面导致起辉面上产生微粒，从而避免反应室主体内的微粒颗数超出制程需求。 | ||
| 搜索关键词： | 起辉 孔洞 溅射装置 气体源 等离子体损伤 本实用新型 反应室主体 侧壁板 底部板 制程 制程反应室 侧壁连接 垂直连接 点燃装置 内壁顶部 平行设置 预设距离 制程腔体 粗糙层 喷砂层 侧壁 基材 内壁 | ||
【主权项】：
1.一种溅射装置的制程反应室，包括：反应室主体，所述反应室主体内设有一气体源以及一起辉面，所述起辉面朝向所述气体源，其特征在于，所述气体源与所述起辉面之间具有一预设距离，所述起辉面上设有粗糙层；所述预设距离为2mm。
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