[实用新型]CVD镀膜机及镀膜装置

摘要

本实用新型涉及化学气相沉淀技术领域，涉及CVD镀膜机及镀膜装置，CVD镀膜机包括箱体、喷气装置和激光装置，激光装置设置在喷气装置外壁，激光装置聚焦于喷气装置的上方，对喷气装置喷出的工作气体加热，使工作气体在激光装置的聚焦区域加热分解，被分解的工作气体能够粘附在待镀膜材料表面，并形成镀膜；移动组件包括平移组件和升降组件，在对不同宽度的待镀膜材料进行镀膜时，通过平移组件带动喷气装置水平移动，这样可以完整对待镀膜材料进行镀膜；同时对于不同的膜厚设计，通过升降组件可以对喷气装置进行竖直高度的调节，以调节膜层厚度；镀膜装置包括上料机构、传送带和CVD镀膜机镀膜装置与现有技术相比具有上述的优势。

主权项

一种CVD镀膜机，其特征在于，包括：箱体、喷气装置和激光装置；所述箱体内设置有带动所述喷气装置移动的移动组件，所述喷气装置与所述移动组件连接，所述移动组件包括平移组件和升降组件；所述激光装置设置在所述喷气装置外壁。