[实用新型]一种柔片稳定对位装置有效

专利信息
申请号: 201720750124.0 申请日: 2017-06-26
公开(公告)号: CN207078773U 公开(公告)日: 2018-03-09
发明(设计)人: 周非;方甲兵;周国平 申请(专利权)人: 深圳市九天中创自动化设备有限公司
主分类号: B65H9/10 分类号: B65H9/10;B65H5/10
代理公司: 深圳市道臻知识产权代理有限公司44360 代理人: 陈琳
地址: 518000 广东省深圳市宝*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型公开了一种柔片稳定对位装置,包括用于吸取固定柔片的下吸附真空平台;设置在下吸附真空平台上部的上吸附真空平台;设置在下吸附真空平台上用于对柔片进行对位的对位机构;用于给下吸附真空平台和上吸附真空平台提供真空吸附力的强弱真空系统;与上吸附真空平台连接用于驱动上吸附真空平台竖直运动的贴近电缸机构;以及与贴近电缸机构连接用于带动贴近电缸机构水平运动的伺服滑台机构。本实用新型通过采用贴近电缸机构克服了柔片在机械对位时柔片弯曲变形导致的位置不稳定,通过强弱真空系统调节下吸附真空平台的真空吸附力,克服了机械对位时柔片的惯性位置漂移,能显著提高贴片贴合等装配的生产精度、良率和稳定性。
搜索关键词: 一种 稳定 对位 装置
【主权项】:
一种柔片稳定对位装置,其特征在于,包括:用于吸取固定柔片的下吸附真空平台;设置在所述下吸附真空平台上部的上吸附真空平台;设置在所述下吸附真空平台上用于对柔片进行对位的对位机构;用于给所述下吸附真空平台和所述上吸附真空平台提供真空吸附力的强弱真空系统;与所述上吸附真空平台连接用于驱动上吸附真空平台竖直运动的贴近电缸机构;以及与所述贴近电缸机构连接用于带动贴近电缸机构水平运动的伺服滑台机构。
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