[实用新型]一种硅片的刻蚀设备

摘要

本实用新型提供了一种硅片的刻蚀设备。它解决了现有刻蚀机的排风装置的结构过于简单，无法将槽内各处的酸性或碱性的雾气排出，清除效果差等技术问题。本硅片的刻蚀设备，包括机架，机架上固定有校正槽和刻蚀槽，机架上铰接有能将刻蚀槽开口封闭住的盖板，机架上设置有能将盖板处的雾气进行清除的清除机构，清除机构包括集液盒、刮板、导轨、滑块、抽风管和抽气泵，导轨水平固定在盖板中部，滑块设置在导轨上，滑块与一能带动其来回移动的移动结构相连，刮板通过连杆一和滑块相连，集液盒通过连杆二固定在滑块上，抽风管一端通过连杆三固定在滑块上，抽风管另一端穿出盖板与抽气泵相连。本实用新型具有清除效果好的优点。

主权项

一种硅片的刻蚀设备，包括机架，其特征在于，所述机架上固定有校正槽和刻蚀槽，校正槽内具有用于输送硅片的若干输送辊一，刻蚀槽内具有用于输送硅片的若干输送辊二，机架上铰接有能将刻蚀槽开口封闭住的盖板，盖板的截面呈倒V形，机架上设置有能将盖板处的雾气进行清除的清除机构，清除机构包括集液盒、刮板、导轨、滑块、抽风管和抽气泵，导轨水平固定在盖板中部，滑块设置在导轨上，滑块与一能带动其来回移动的移动结构相连，刮板通过连杆一和滑块相连，且刮板与盖板内壁相接触，集液盒通过连杆二固定在滑块上，且集液盒位于刮板正下方，抽风管一端通过连杆三固定在滑块上，抽风管另一端穿出盖板与抽气泵相连，抽风管上还设置有单向阀。