[实用新型]一种用于光刻机的顶销吸附平台有效

专利信息
申请号: 201720895756.6 申请日: 2017-07-21
公开(公告)号: CN207224925U 公开(公告)日: 2018-04-13
发明(设计)人: 周朝渊;张世龙;唐守杰 申请(专利权)人: 雅科贝思精密机电(上海)有限公司
主分类号: B44B1/06 分类号: B44B1/06;B44B3/06
代理公司: 北京联瑞联丰知识产权代理事务所(普通合伙)11411 代理人: 黄冠华
地址: 200000 上海市浦东新区川*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 实用新型提供了一种用于光刻机的顶销吸附平台,包括吸附平台,吸附平台上均匀设置有若干第一通孔,吸附平台的下方设置有顶销连接平台,顶销连接平台的上端面均匀设置有若干顶销,每个顶销对应一个第一通孔,顶销的端部设置有吸盘或支撑球;顶销连接平台的中部螺纹连接有滚珠丝杠,滚珠丝杠的下端连接有直驱旋转电机。本实用新型提供的用于光刻机的顶销吸附平台,采用直驱电机,机械响应快,同时性好,能够实现任意位置定位,同时采用导轨支撑,稳定性好。
搜索关键词: 一种 用于 光刻 吸附 平台
【主权项】:
一种用于光刻机的顶销吸附平台,其特征在于:包括吸附平台,所述吸附平台上均匀设置有若干第一通孔,所述吸附平台的下方设置有顶销连接平台,所述顶销连接平台的上端面均匀设置有若干顶销,每个所述顶销对应一个所述第一通孔,所述顶销的端部设置有吸盘或支撑球;所述顶销连接平台的中部螺纹连接有滚珠丝杠,所述滚珠丝杠的下端连接有直驱旋转电机。
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