[实用新型]研磨抛光装置有效

专利信息
申请号: 201720989746.9 申请日: 2017-08-09
公开(公告)号: CN207239867U 公开(公告)日: 2018-04-17
发明(设计)人: 谢涛;罗友明;吴小春 申请(专利权)人: 三明福特科光电有限公司
主分类号: B24B13/00 分类号: B24B13/00;B24B41/04
代理公司: 福州市众韬专利代理事务所(普通合伙)35220 代理人: 陈莉娜,黄秀婷
地址: 365499 福建省三明市*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 实用新型涉及一种研磨抛光装置,包括用于装夹住镜片的镜片盘、扣设在镜片盘顶面上的抛光模、紧贴设置在抛光模底面上的聚氨酯研磨抛光层以及垂直压设在抛光模上方中央用于固定抛光模和镜片盘两者相对位置的压轴。该实用新型克服了现有研磨抛光装置虽然加工效率较高,但由于抛光模高速运转产生的离心力致使浇灌的抛光液很难接触到抛光模的中心部分,容易导致抛光模发热、镜片盘中央装夹的镜片无水研磨等情况,为避免以上情况,需要延长加工时间,降低加工转速或减少加工压力,导致多片加工效率降低的缺点,具有能在镜片加工过程中避免抛光模发热、保证整个镜片盘上的镜片都能充分接触到抛光液从而避免无水研磨、能有效保障多片加工效率和质量的优点。
搜索关键词: 研磨 抛光 装置
【主权项】:
一种研磨抛光装置,包括安装在主轴(1)上能随主轴(1)转动的用于装夹住镜片(2)的镜片盘(3)、扣设在镜片盘(3)顶面上与镜片盘(3)配合对镜片(2)进行研磨抛光的抛光模(4)、紧贴设置在抛光模(4)底面上的用于对镜片(2)进行研磨抛光的聚氨酯研磨抛光层(5)以及垂直压设在抛光模(4)上方中央用于固定抛光模(4)和镜片盘(3)两者相对位置的压轴(6),所述镜片盘(3)的顶面为凸面,所述抛光模(4)底面的曲率半径与镜片盘(3)顶面的曲率半径相同且两者形状相适应,其特征在于:所述抛光模(4)上设有贯通抛光模(4)上下表面的多个通水孔(4‑1),聚氨酯研磨抛光层(5)上对应各通水孔(4‑1)的位置处还设有贯通聚氨酯研磨抛光层(5)上下表面的多个孔洞(5‑1)。
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