[实用新型]晶圆检查设备的清洗装置有效
申请号: | 201721169210.9 | 申请日: | 2017-09-13 |
公开(公告)号: | CN208033112U | 公开(公告)日: | 2018-11-02 |
发明(设计)人: | 郑瑞峰 | 申请(专利权)人: | 亚亚科技股份有限公司 |
主分类号: | B08B1/04 | 分类号: | B08B1/04;B08B1/00;B08B5/02;H01L21/67 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 梁挥;鲍俊萍 |
地址: | 中国台湾新竹*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种晶圆检查设备的清洗装置,包含基座,具有集水槽,该基座于该集水槽内具有第一入水孔和第一出水孔,以及滚筒,枢接在基座,滚筒部分没入集水槽。由此,在晶圆检测完后,经过滚筒刷洗,可确实减少晶圆背面上残留余液的机会。 | ||
搜索关键词: | 集水槽 滚筒 检查设备 清洗装置 残留余液 晶圆背面 晶圆检测 出水孔 入水孔 晶圆 枢接 种晶 | ||
【主权项】:
1.一种晶圆检查设备的清洗装置,其特征在于,该清洗装置包含:一基座,具有一集水槽;该基座于该集水槽内具有一第一入水孔和一第一出水孔;以及一滚筒,枢接在该基座,该滚筒部分没入该集水槽,该滚筒具有一滚轴和一刷筒,该滚轴枢接该基座,该刷筒套设在该滚轴。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于亚亚科技股份有限公司,未经亚亚科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201721169210.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种中药材制备用的喷淋清洗设备
- 下一篇:一种电力设备除尘装置