[实用新型]清洁装置有效
申请号: | 201721171331.7 | 申请日: | 2017-09-13 |
公开(公告)号: | CN207204676U | 公开(公告)日: | 2018-04-10 |
发明(设计)人: | 彭金宝;张伟 | 申请(专利权)人: | 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | B08B1/02 | 分类号: | B08B1/02 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司11243 | 代理人: | 许静,刘伟 |
地址: | 230012 安*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种清洁装置,用于对基板的待清洁面进行清洁,包括至少一个滚轮结构,所述滚轮结构的内部具有一容纳空间,所述滚轮结构的至少一端设有与所述容纳空间连通的清洗液注入孔,所述滚轮结构的外周面上设有多个与所述容纳空间连通的清洗液出口,所述滚轮结构的外周面上包裹有能够渗透清洗液的清洗层。通过清洗液对基板的待清洁面进行清洗,但不会影响基板上与待清洁面相对的一面。 | ||
搜索关键词: | 清洁 装置 | ||
【主权项】:
一种清洁装置,用于对基板的待清洁面进行清洁,其特征在于,包括:至少一个滚轮结构,所述滚轮结构的内部具有一容纳空间,所述滚轮结构的至少一端设有与所述容纳空间连通的清洗液注入孔,所述滚轮结构的外周面上设有多个与所述容纳空间连通的清洗液出口,所述滚轮结构的外周面上包裹有能够渗透清洗液的清洗层。
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