[实用新型]一种可抗PID的硅片表面镀膜臭氧喷射装置

摘要

本实用新型涉及一种可抗PID的硅片表面镀膜臭氧喷射装置，包括安装架、臭氧发生器、输气管、稳流筒、等压储气罐、连接头、连接管、喷头、储气罐、控制器，其特征在于：所述安装架上部设置稳流筒，下部设置等压储气罐，稳流筒的下部和等压储气罐的上部分别设置一一对应的连接头，且相对应的两个连接头通过连接管连接：所述等压储气罐下部安装喷头；所述臭氧发生器通过输气管连接稳流筒，且在输气管上设置储气罐。该装置使用臭氧对烘干后的硅片进行喷射，经臭氧喷射，硅片上形成一层SiO薄膜，从而提高硅片的抗PID性能。与现有使用笑气进行喷射相比，该装置的改造技术简单，改造成本低，且能提升硅片的使用性能。

主权项

1.一种可抗PID的硅片表面镀膜臭氧喷射装置，包括安装架、臭氧发生器、输气管、稳流筒、等压储气罐、连接头、连接管、喷头、储气罐、控制器，其特征在于：所述安装架上部设置稳流筒，下部设置等压储气罐，稳流筒的下部和等压储气罐的上部分别设置一一对应的连接头，且相对应的两个连接头通过连接管连接：所述等压储气罐下部安装喷头；所述臭氧发生器通过输气管连接稳流筒，且在输气管上设置储气罐。