[实用新型]一种有机真空镀膜掩膜装置

摘要

本实用新型涉及一种有机真空镀膜掩膜装置，包括样品架和若干均布设置在样品架上的掩膜板系统；所述样品架包括样品旋转轴和旋转盘，所述样品旋转轴上端通过通孔贯穿真空室上盖，所述通孔上设置有磁流体密封装置，所述样品旋转轴上端连接有步进电机，所述步进电机上设置有定位装置；所述掩膜板系统包括升降轴、掩膜板座和掩膜板，所述升降轴从下往上依次设置有掩膜板座、旋转盘、导向套、弹簧和机械手引导块，所述真空室上盖还贯穿设置有真空机械手；本实用新型采用公转系统与自转系统相结合，能够保证掩模板与被镀膜样品的紧密接触且在切换过程中不刮伤样品及膜层，可以一次制备多个样品，极大的提高了样品制备效率。

主权项

1.一种有机真空镀膜掩膜装置，其特征在于，包括样品架和若干均布设置在样品架上的掩膜板系统；所述样品架包括样品旋转轴和设置在样品旋转轴下端的旋转盘，所述样品旋转轴上端通过通孔贯穿真空室上盖，所述通孔上设置有磁流体密封装置，所述样品旋转轴上端连接有步进电机，所述步进电机上设置有定位装置，所述旋转盘上设置有与掩膜板系统对应的若干样品座，所述样品座内放置样品，所述样品上方放置有压块；所述掩膜板系统包括升降轴、与样品座相配合并设置在旋转盘下方的掩膜板座和放置在掩膜板座内的掩膜板，所述升降轴从下往上依次设置有掩膜板座、旋转盘、导向套、弹簧和机械手引导块，所述升降轴与掩膜板座和旋转盘可转动连接，所述机械手引导块固定在升降轴上端；其中，所述真空室上盖还贯穿设置有真空机械手，所述真空机械手到样品旋转轴的距离与机械手引导块到样品旋转轴的距离等距。