[实用新型]一种硅片自动下料系统有效
申请号: | 201721329858.8 | 申请日: | 2017-10-16 |
公开(公告)号: | CN207233717U | 公开(公告)日: | 2018-04-13 |
发明(设计)人: | 朱雷 | 申请(专利权)人: | 四川英发太阳能科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/677 | 分类号: | H01L21/677;H01L31/18 |
代理公司: | 成都行之专利代理事务所(普通合伙)51220 | 代理人: | 唐邦英 |
地址: | 610000 四川省成都市中国(四川)自*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种硅片自动下料系统,包括第一传送机构、升降装置和第二传送机构,所述升降装置包括固定机构,所述固定机构的底部设置有升降机构,所述第一传送机构用于传送硅片承载盒,所述第二传送机构用于传送硅片,所述第二传送机构的下端设置有水平气缸,所述固定机构设置在第二传送机构、第一传送机构之间,所述固定机构包括立板,所述立板的上端和下端均设置有支撑板,所述固定机构的上端在支撑板下方还设置有压紧板,所述压紧板的两端设置有L形卡板,所述L形卡板由气缸控制左右移动,所述压紧板由垂直气缸控制上下移动。本实用新型解决了现有硅片承载盒易倾斜的问题。 | ||
搜索关键词: | 一种 硅片 自动 系统 | ||
【主权项】:
一种硅片自动下料系统,包括第一传送机构(1)、升降装置和第二传送机构(4),所述升降装置包括固定机构(3),所述固定机构(3)的底部设置有升降机构(5),所述第一传送机构(1)用于传送硅片承载盒(2),所述第一传送机构(1)与固定机构(3)的底部在同一水平面,所述固定机构(3)设置在第一传送机构(1)的后端,所述第二传送机构(4)用于传送硅片(7),所述第二传送机构(4)的下端设置有水平气缸(6),所述固定机构(3)设置在第二传送机构(4)的后端,所述固定机构(3)设置在第二传送机构(4)、第一传送机构(1)之间,其特征在于,所述固定机构(3)包括立板(31),所述立板(31)的上端和下端均设置有支撑板(32),所述固定机构(3)的上端在支撑板(32)下方还设置有压紧板(33),所述压紧板(33)的两端设置有L形卡板(34),所述L形卡板(34)由气缸控制左右移动,所述压紧板(33)由垂直气缸(35)控制上下移动。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造