[实用新型]真空镀膜设备有效
| 申请号： | 201721331755.5 | 申请日： | 2017-10-16 |
| 公开（公告）号： | CN207243986U | 公开（公告）日： | 2018-04-17 |
| 发明（设计）人： | 杨斌 | 申请（专利权）人： | 君泰创新（北京）科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/26 | 分类号： | C23C14/26;C23C14/54 |
| 代理公司： | 北京维澳专利代理有限公司11252 | 代理人： | 周放,姜溯洲 |
| 地址： | 100176 北京市大兴区北京经*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种真空镀膜设备，包括用于镀膜的工作腔，设置有开口，该设备还包括顶盖，封堵开口；顶盖朝向工作腔内部的一侧设置有加热丝；第一温度传感器，设置在所述工作腔的顶部；第二温度传感器，设置在工作腔的底部。本实用新型提供的真空镀膜设备通过设置第一温度传感器感测加热丝的温度，通过设置第二温度传感器感测基板的环境温度。这样，如果工作腔的环境温度发生变化，可以通过第一温度传感器和第二温度传感器的反馈对环境温度进行修正，从而保证基板所处的温度恒定，不仅提高了测量温度的精准性，也提高了工艺质量。 | ||
| 搜索关键词： | 真空镀膜 设备 | ||
【主权项】：
一种真空镀膜设备，包括用于镀膜的工作腔，所述工作腔的顶部设置有开口，所述工作腔的内部用于容置基板，其特征在于，所述真空镀膜设备还包括：顶盖，封堵所述开口；所述顶盖朝向所述工作腔内部的一侧设置有加热丝；第一温度传感器，设置在所述工作腔的顶部；第二温度传感器，设置在所述工作腔的底部。
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