[实用新型]一种可旋转的PECVD镀膜装置有效
申请号: | 201721336978.0 | 申请日: | 2017-10-18 |
公开(公告)号: | CN207405236U | 公开(公告)日: | 2018-05-25 |
发明(设计)人: | 刘振波;张向阳 | 申请(专利权)人: | 深圳海容高新材料科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/50 | 分类号: | C23C16/50 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518000 广东省深圳市前海深港合作区前*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种可旋转的PECVD镀膜装置,所述镀膜装置具有一矩形的镀膜空腔,镀膜空腔的前端开口且开口铰接有一可打开的密封门,镀膜空腔的左右侧壁分别固定安装有正对设置的阳极电极板和阴极电极板,所述阳极电极板连接射频电源,所述阴极电极板接地,所述镀膜空腔上下壁之间设置有丝杆,所述丝杆的一端连接一驱动马达,所述丝杆上设置有相配的可上下移动的工件托盘,所述工件托盘包括一个可旋转的大盘和设置于大盘上多个可旋转的小盘,本实用新型的有益效果在于,本镀膜装置能够使待加工产品发生自转、公转、升降复合运动,待加工产品在腔体内充分的接触纳米材料,形成了比较致密和均匀的纳米涂层,涂层的质量有了较大的改善。 | ||
搜索关键词: | 可旋转的 镀膜 空腔 丝杆 本实用新型 待加工产品 阳极电极板 阴极电极板 镀膜装置 工件托盘 大盘 致密 可上下移动 复合运动 纳米材料 纳米涂层 前端开口 驱动马达 射频电源 一端连接 正对设置 左右侧壁 接地 可打开 密封门 自转 铰接 相配 小盘 升降 开口 体内 | ||
【主权项】:
1.一种可旋转的PECVD镀膜装置,其特征在于,所述镀膜装置内部设有一矩形镀膜空腔,镀膜空腔的前端开口且开口铰接有一可打开的密封门,镀膜空腔的左右侧壁分别固定安装有正对设置的阳极电极板和阴极电极板,所述阳极电极板连接射频电源,所述阴极电极板接地,所述镀膜空腔上下壁之间设置有丝杆,所述丝杆的一端连接一驱动马达,所述丝杆上设置有相配的可上下移动的工件托盘,所述工件托盘包括一个可旋转的大盘和设置于大盘上多个可旋转的小盘。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的