[实用新型]一种磁流变抛光加工系统有效

专利信息
申请号: 201721458397.4 申请日: 2017-11-03
公开(公告)号: CN207387243U 公开(公告)日: 2018-05-22
发明(设计)人: 张学军;薛栋林;张鑫;李龙响;宋驰 申请(专利权)人: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
主分类号: B24B1/00 分类号: B24B1/00;B24B29/02;B24B41/06;B24B57/02;B24B41/02
代理公司: 深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙) 44316 代理人: 赵勍毅
地址: 130033 吉林省长春*** 国省代码: 吉林;22
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摘要: 实用新型提供的磁流变抛光加工系统,磁流变抛光轮与第一机械臂相连,磁流变循环系统与第二机械臂相连,工件(如光学元件)固定在工作台上,磁流变循环系统通过循环供给回路与磁流变抛光轮连接,磁流变抛光轮在运动程序控制下由第一机械臂带动,利用磁流变工作原理,对工作台上的工件进行加工,使得加工过程高速顺畅,同时,在第二机械臂的带动下,配合磁流变循环系统实现对磁流变抛光轮的液体供给与循环支持,保证磁流变抛光加工系统正常工作,也进一步提升了打磨抛光的整体效率磁流变抛光加工系统。
搜索关键词: 一种 流变 抛光 加工 系统
【主权项】:
1.一种磁流变抛光加工系统,其特征在于,包括第一机械臂、安装在所述第一机械臂一端的磁流变抛光轮、第二机械臂、安装于所述第二机械臂一端的用于提供磁流变液的磁流变循环系统、用于放置工件的工作台以及与所述磁流变循环系统的出口连通用于输送所述磁流变液的循环供给回路,所述循环供给回路与所述磁流变抛光轮连接,当所述第一机械臂带动所述磁流变抛光轮进行抛光加工操作时所述第二机械臂带动所述磁流变循环系统移动至所述磁流变抛光轮的预设范围内,所述预设范围的半径小于等于所述循环供给回路的最大供液距离。
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