[实用新型]冷阱装置、尾气处理系统及半导体生产设备有效
| 申请号： | 201721533749.8 | 申请日： | 2017-11-16 |
| 公开（公告）号： | CN207694292U | 公开（公告）日： | 2018-08-07 |
| 发明（设计）人： | 特洛伊·乔纳森·贝克;武泽成;王颖慧 | 申请（专利权）人： | 镓特半导体科技（上海）有限公司 |
| 主分类号： | B01D8/00 | 分类号： | B01D8/00;B01D49/00 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人： | 余明伟 |
| 地址： | 201306 上海市浦东*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种冷阱装置、尾气处理系统及半导体生产设备。冷阱装置可以用于对从反应腔室排出的尾气进行预处理。冷阱装置包括罐体及位于罐体上的冷却管路，罐体包括罐体上部的冷却区，其冷却区顶部设置有进气口且进气口与反应腔室相连接；罐体还包括位于罐体下部的沉淀区，沉淀区侧壁设置有排气口和排气口。采用本实用新型的冷阱装置能避免粉尘沉积在抽气装置上造成抽气装置停机，减少抽气装置和尾气处理装置的废气处理量且延长设备清洗保养周期以降低生产成本；尾气处理系统能快速高效地处理各种废气以降低对环境的危害，且结构简单，成本低廉；采用本实用新型的半导体生产设备，能减少保养频率，有效降低生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 冷阱装置 罐体 半导体生产设备 尾气处理系统 本实用新型 抽气装置 进气口 反应腔室 沉淀区 冷却区 排气口 预处理 尾气处理装置 保养频率 保养周期 顶部设置 废气处理 粉尘沉积 罐体上部 罐体下部 冷却管路 设备清洗 侧壁 排出 停机 废气 尾气 | ||
【主权项】：
1.一种冷阱装置，其特征在于，所述冷阱装置包括罐体及位于所述罐体上的冷却管路，所述罐体具有内壁及外壁且所述罐体包括：冷却区，位于所述罐体的上部，所述冷却区顶部设置有进气口；沉淀区，位于所述罐体的下部，与所述冷却区相连通，所述沉淀区上设置有排气口。
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