[实用新型]一种应用于铜电解生产电积铜的对流喷射装置有效
申请号: | 201721543236.5 | 申请日: | 2017-11-17 |
公开(公告)号: | CN207468748U | 公开(公告)日: | 2018-06-08 |
发明(设计)人: | 包能远;杨国红;丁学锁;王晓平;高军 | 申请(专利权)人: | 金川集团股份有限公司 |
主分类号: | C25C7/00 | 分类号: | C25C7/00;C25C1/12 |
代理公司: | 甘肃省知识产权事务中心 62100 | 代理人: | 武战翠 |
地址: | 737103*** | 国省代码: | 甘肃;62 |
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摘要: | 本实用新型提供了一种应用于铜电解生产电积铜的对流喷射装置,沿电解槽槽的两侧安装相对的一对进液底管,两进液底管的始端与进液总管相接通,两进液底管的尾端分别安装有排出堵塞物的活动接头,两进液底管上均布有相对的溶液对流口。本实用新型在运行过程中保证了电积生产过程中的电解液充分混合,电解液成分、温度等条件在整个电解槽内分布相对均匀,提高了电积铜的物理外观质量。 | ||
搜索关键词: | 底管 进液 电积铜 本实用新型 对流喷射 电解槽 电解液 铜电解 充分混合 活动接头 进液总管 生产过程 物理外观 运行过程 堵塞物 对流口 电积 均布 排出 始端 尾端 应用 接通 生产 保证 | ||
【主权项】:
一种应用于铜电解生产电积铜的对流喷射装置,其特征在于:沿电解槽槽的两侧安装相对的进液底管(2),两进液底管(2)的始端与进液总管(1)相接通,两进液底管的尾端分别安装有排出堵塞物的活动接头(5),两进液底管上均布有相对的溶液对流口(3)。
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