[实用新型]一种用于改善白像素的CMOS图像传感器有效

专利信息
申请号: 201721592960.7 申请日: 2017-11-24
公开(公告)号: CN207781597U 公开(公告)日: 2018-08-28
发明(设计)人: 王骞;秋沉沉;曹亚民 申请(专利权)人: 上海华力微电子有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 上海申新律师事务所 31272 代理人: 严罗一
地址: 201203 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 实用新型提供了一种用于改善白像素的CMOS图像传感器,采用4T结构的控制及传输电路,所述CMOS图像传感器包括光电二极管,所述光电二级管上表面设置有多晶硅层。本实用新型针对现有CMOS图像传感器中采用P型掺杂隔离光电二极管和氧化层界面带来的隔离不充分的问题。本实用新型中在现有CMOS图像传感器CIS的基础上,加入额外的多晶硅设计,并在CIS工作时间内对该多晶硅区域施加负偏压,采用电性隔离的方法,降低氧化层界面态对光电二极管的影响,从而降低白像素等噪声,从而使原有的固定的氧化层隔离效果,变成可调式的隔离效果,满足不同的隔离需求。
搜索关键词: 本实用新型 光电二极管 白像素 氧化层界面 隔离效果 隔离 多晶硅区域 光电二级管 传输电路 电性隔离 多晶硅层 多晶硅 负偏压 固定的 可调式 上表面 氧化层 原有的 噪声 施加
【主权项】:
1.一种用于改善白像素的CMOS图像传感器,其特征在于:采用4T结构的控制及传输电路,所述CMOS图像传感器包括光电二极管(1),所述光电二级管上表面设置有多晶硅层(2);所述光电二极管(1)表面覆盖常规厚度的栅氧化层(3);所述栅氧化层(3)上方覆盖梯形或三角形的多晶硅层(2);所述多晶硅层(2)采用P型掺杂。
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