[实用新型]一种用于改善白像素的CMOS图像传感器有效
申请号: | 201721592960.7 | 申请日: | 2017-11-24 |
公开(公告)号: | CN207781597U | 公开(公告)日: | 2018-08-28 |
发明(设计)人: | 王骞;秋沉沉;曹亚民 | 申请(专利权)人: | 上海华力微电子有限公司 |
主分类号: | H01L27/146 | 分类号: | H01L27/146 |
代理公司: | 上海申新律师事务所 31272 | 代理人: | 严罗一 |
地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型提供了一种用于改善白像素的CMOS图像传感器,采用4T结构的控制及传输电路,所述CMOS图像传感器包括光电二极管,所述光电二级管上表面设置有多晶硅层。本实用新型针对现有CMOS图像传感器中采用P型掺杂隔离光电二极管和氧化层界面带来的隔离不充分的问题。本实用新型中在现有CMOS图像传感器CIS的基础上,加入额外的多晶硅设计,并在CIS工作时间内对该多晶硅区域施加负偏压,采用电性隔离的方法,降低氧化层界面态对光电二极管的影响,从而降低白像素等噪声,从而使原有的固定的氧化层隔离效果,变成可调式的隔离效果,满足不同的隔离需求。 | ||
搜索关键词: | 本实用新型 光电二极管 白像素 氧化层界面 隔离效果 隔离 多晶硅区域 光电二级管 传输电路 电性隔离 多晶硅层 多晶硅 负偏压 固定的 可调式 上表面 氧化层 原有的 噪声 施加 | ||
【主权项】:
1.一种用于改善白像素的CMOS图像传感器,其特征在于:采用4T结构的控制及传输电路,所述CMOS图像传感器包括光电二极管(1),所述光电二级管上表面设置有多晶硅层(2);所述光电二极管(1)表面覆盖常规厚度的栅氧化层(3);所述栅氧化层(3)上方覆盖梯形或三角形的多晶硅层(2);所述多晶硅层(2)采用P型掺杂。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的