[实用新型]一种新型抗腐蚀真空液体收集器有效
| 申请号： | 201721610717.3 | 申请日： | 2017-11-28 |
| 公开（公告）号： | CN207834258U | 公开（公告）日： | 2018-09-07 |
| 发明（设计）人： | 徐良;褚君尉;刘建哲;夏建白 | 申请（专利权）人： | 浙江博蓝特半导体科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67 |
| 代理公司： | 浙江杭州金通专利事务所有限公司 33100 | 代理人： | 吴佩 |
| 地址： | 321016 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种半导体显影设备，尤其是涉及一种新型抗腐蚀真空液体收集器，包括锥形挡板，接受管，贮存腔和真空泵，其特征在于此设备安装在显影机工位正下方，锥形挡板表面设置C型流液槽并底部自带具有一定倾斜度的U型槽，利用真空泵形成的负压，使显影液快速流入贮存腔。可以防止多余的显影液沿着转轴流入并腐蚀马达，降低了故障停机率，提高了显影机的使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 真空液体 锥形挡板 抗腐蚀 收集器 显影机 显影液 真空泵 贮存腔 倾斜度 本实用新型 表面设置 设备安装 使用寿命 显影设备 接受管 流液槽 负压 工位 停机 转轴 自带 马达 半导体 腐蚀 | ||
【主权项】：
1.一种新型抗腐蚀真空液体收集器，包括锥形挡板，接受管，贮存腔和真空泵，其特征在于此设备安装在显影机工位正下方，锥形挡板表面设置C型流液槽并底部自带具有一定倾斜度的U型槽，利用真空泵形成的负压，使显影液快速流入贮存腔。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
