[实用新型]集成电路紫外正性光刻胶的生产装置有效

专利信息
申请号: 201721747467.8 申请日: 2017-12-14
公开(公告)号: CN207529107U 公开(公告)日: 2018-06-22
发明(设计)人: 廖如佴 申请(专利权)人: 成都斯伯里科技有限公司
主分类号: G03F7/004 分类号: G03F7/004;G03F7/039
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 610041 四川省*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 集成电路紫外正性光刻胶的生产装置,主要包括:聚合釜(D101)、脱水脱酚塔(E101)、酯化釜(D102)、压滤机(L101)、干燥器(L102)、配胶釜(D103)、压滤机(L103)、百级超净间(L104),其中,压滤机(L101)分别与酯化釜(D102)、干燥器(L102)相连接,压滤机(L103)分别与配胶釜(D103)、百级超净间(L104)相连接,其中,聚合釜(D101)公称容积700‑750L。
搜索关键词: 压滤机 紫外正性光刻胶 生产装置 干燥器 聚合釜 酯化釜 配胶 集成电路 脱酚塔 脱水
【主权项】:
1.集成电路紫外正性光刻胶的生产装置,其特征在于,主要包括:聚合釜(D101)、脱水脱酚塔(E101)、酯化釜(D102)、压滤机(L101)、干燥器(L102)、配胶釜(D103)、压滤机(L103)、百级超净间(L104),其中,压滤机(L101)分别与酯化釜(D102)、干燥器(L102)相连接,压滤机(L103)分别与配胶釜(D103)、百级超净间(L104)相连接,其中,聚合釜(D101)公称容积700‑750L。
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