[实用新型]等离子割炬的两点支架有效
| 申请号： | 201721756670.1 | 申请日： | 2017-12-15 |
| 公开（公告）号： | CN207710068U | 公开（公告）日： | 2018-08-10 |
| 发明（设计）人： | 李恩佐;何少波;王晓丽;陈昊 | 申请（专利权）人： | 上海亿诺焊接科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B23K10/00 | 分类号： | B23K10/00 |
| 代理公司： | 上海顺华专利代理有限责任公司 31203 | 代理人： | 顾雯 |
| 地址： | 201611 上海市松江区车阳*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种用于等离子割炬的两点支架，主体，所述主体具有内表面、外表面、近端、远端弧形结构，以及至少一个排放通道，所述排放通道连通所述内表面和所述外表面；所述两点支架由于远端是弧型设计，当所述两点支架挨着工件滑动切割时，能够使等离子割炬的引弧距离始终是一个恒定的尺寸，达到更加可靠的引弧成功率；所述两点支架具有少一个排放通道，使得离子割炬腔体内外压力均衡，而不会由于等离子割炬在切割时，气体在向外吹的时候枪头保护帽和喷嘴之间产生负压，从而吸进铁渣造成短路。 | ||
| 搜索关键词： | 支架 等离子割炬 排放通道 内表面 引弧 远端 切割 本实用新型 弧形结构 离子割炬 喷嘴 保护帽 恒定的 外压力 短路 滑动 负压 弧型 近端 枪头 铁渣 成功率 连通 均衡 体内 | ||
【主权项】：
1.一种用于等离子割炬的两点支架，其特征在于：包括：主体，所述主体具有内表面、外表面、近端、远端弧形结构，以及至少一个排放通道，所述排放通道连通所述内表面和所述外表面；所述远端弧形结构的尺寸做成使等离子割炬的引弧距离始终是一个恒定的尺寸。
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