[实用新型]陶瓷施釉坯体擦底装置有效
| 申请号： | 201721759448.7 | 申请日： | 2017-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN207874521U | 公开（公告）日： | 2018-09-18 |
| 发明（设计）人： | 刘怀贵 | 申请（专利权）人： | 钦州华竹食品有限公司 |
| 主分类号： | B28B11/22 | 分类号： | B28B11/22;B28B11/04 |
| 代理公司： | 南宁东智知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 45117 | 代理人： | 巢雄辉;汪治兴 |
| 地址： | 535000 广西壮族自*** | 国省代码： | 广西;45 |
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| 摘要： | 本实用新型公开一种陶瓷施釉坯体擦底装置，其特征在于：包括支架、第一传送装置和第二传送装置，所述第一传送装置包括滚筒座、滚筒和传送带，所述滚筒座设置在支架的顶部，所述滚筒设置在滚筒座上，所述传送带设置在两个以上的滚筒上；所述第二传送装置包括滚轮座、滚轮和传送条，所述滚轮座设置在支架的下部和顶部，所述滚轮上设有转轴，所述滚轮通过转轴设置在滚轮座上，所述传送条设置在支架下部和顶部的滚轮上。本实用新型的陶瓷施釉坯体擦底装置具有自动化程度高，工作效率高，并且能将陶瓷施釉坯体底部的剩釉迅速而有效地擦拭干净，提高产品质量。 | ||
| 搜索关键词： | 传送装置 滚轮 坯体 施釉 滚轮座 滚筒座 陶瓷 支架 本实用新型 传送带 滚筒 转轴 传送 工作效率高 滚筒设置 支架下部 有效地 擦拭 自动化 | ||
【主权项】：
1.一种陶瓷施釉坯体擦底装置，其特征在于：包括支架（1）、第一传送装置和第二传送装置，所述第一传送装置设置在支架（1）的前部，所述第二传送装置设置在支架（1）的后部，所述第一传送装置包括滚筒座（3）、滚筒（5）和传送带（6），所述滚筒座（3）设置在支架（1）的顶部，所述滚筒（5）设置在滚筒座（3）上，所述传送带（6）设置在两个以上的滚筒（5）上，所述传送带（6）呈平行循环传送形状；所述第二传送装置包括滚轮座（2）、滚轮（4）和传送条（7），所述滚轮座（2）设置在支架（1）的下部和顶部，所述滚轮（4）上设有转轴，所述滚轮（4）通过转轴设置在滚轮座（2）上，所述传送条（7）设置在支架（1）下部和顶部的滚轮（4）上，所述传送条（7）呈三角循环传送形状。
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