[实用新型]一种硅片抛光热处理装置

摘要

本实用新型公开了一种硅片抛光热处理装置，包括支撑座，支撑座上端两侧安装有支撑架，支撑架顶端安装有横架，横架上端中部安装有抛光电机，抛光电机下端安装有旋转轴，旋转轴中部安装有旋转凸轮，旋转轴底端安装有上固定座，上固定座两端通过螺栓连接有下固定座，下固定座下端中部安装有抛光轴，支撑座中部安装有调节柱，调节柱下端中部安装有从动齿轮，从动齿轮前端中部安装有主动齿轮，调节柱上端安装有工作台，支撑架内侧上端安装有引气腔，引气腔内部安装有活塞。本实用新型，实现抛光轴在抛光的同时还可以对硅片进行热处理，既降低着工人额外安装有热处理装置的工作强度，同时也增加着热处理工艺与抛光工艺之间的适配性，实用性强。

主权项

1.一种硅片抛光热处理装置，包括支撑座（1），其特征在于，所述支撑座（1）上端两侧安装有支撑架（11），支撑架（11）顶端安装有横架（9），横架（9）上端中部安装有抛光电机（10），抛光电机（10）下端安装有旋转轴（18），旋转轴（18）中部安装有旋转凸轮（20），旋转轴（18）底端安装有上固定座（22），上固定座（22）两端通过螺栓（26）连接有下固定座（23），下固定座（23）下端中部安装有抛光轴（25），所述支撑座（1）中部安装有调节柱（6），调节柱（6）下端中部安装有从动齿轮（3），从动齿轮（3）前端中部安装有主动齿轮（4），所述调节柱（6）上端安装有工作台（7），工作台（7）上端外侧安装有夹持装置（8），所述支撑架（11）内侧上端安装有引气腔（14），引气腔（14）内部安装有活塞（15），活塞（15）中部安装有活塞杆（16），活塞杆（16）另一端安装有接触板（19）。/n