[发明专利]一种低消旋杂质利拉鲁肽的合成方法有效
| 申请号： | 201780001586.5 | 申请日： | 2017-08-18 |
| 公开（公告）号： | CN107960079B | 公开（公告）日： | 2021-02-19 |
| 发明（设计）人： | 付玉清;马洪季;李新宇;张利香;支钦;吴丽芬;刘自成 | 申请（专利权）人： | 深圳市健元医药科技有限公司 |
| 主分类号： | C07K14/605 | 分类号： | C07K14/605;C07K1/04 |
| 代理公司： | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人： | 许飞 |
| 地址： | 518057 广东省深圳市南山区高新*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： |
一种低消旋杂质利拉鲁肽的合成方法，包括如下步骤：合成得到前肽，使用固相合成法在前肽上偶联含有Thr‑Phe的2～5肽；进一步固相合成得到利拉鲁肽树脂，经侧链修饰后裂解或直接裂解、纯化、冻干，得到利拉鲁肽。提供的利拉鲁肽的合成方法有效抑制或减少了与产品性质极为相似的消旋杂质D‑Thr |
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| 搜索关键词： | 一种 低消旋 杂质 利拉鲁肽 合成 方法 | ||
【主权项】：
一种低消旋杂质利拉鲁肽的合成方法，包括如下步骤：合成得到前肽，之后使用固相合成法在前肽上偶联含有Thr‑Phe的2～5肽，进一步固相合成得到利拉鲁肽树脂，经侧链修饰后裂解或直接裂解、纯化、冻干，得到利拉鲁肽。
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