[发明专利]防污性薄膜有效
| 申请号： | 201780005426.8 | 申请日： | 2017-07-03 |
| 公开（公告）号： | CN108495720B | 公开（公告）日： | 2020-08-25 |
| 发明（设计）人： | 林秀和;新纳厚志 | 申请（专利权）人： | 夏普株式会社 |
| 主分类号： | B05D5/00 | 分类号： | B05D5/00;B29C59/02;B32B3/30;B32B5/14;B32B27/16;B32B27/18;C08J7/18 |
| 代理公司： | 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 | 代理人： | 汪飞亚;习冬梅 |
| 地址： | 日本国大*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供防污性以及耐磨性优良的防污性薄膜。本发明为具备在表面具有凹凸构造的聚合体层的防污性薄膜，所述凹凸构造为多个凸部以可见光波长以下的间隔设置，所述聚合体层含有碳原子、氮原子、氧原子以及氟原子作为构成原子，通过X射线光电子能谱法测量的氟原子数相对于碳原子数、氮原子数、氧原子数以及氟原子数的总数的比例为在上述凹凸构造的表面为33atom％以上，往深度方向远离上述凹凸构造的表面90～120nm的区域的平均值为3atom％以下，通过X射线光电子能谱法测量的氮原子数相对于碳原子数、氮原子数、氧原子数以及氟原子数的总数的比例在往深度方向远离上述凹凸构造的表面90～120nm的区域的平均值为4atom％以下。 | ||
| 搜索关键词： | 防污 薄膜 | ||
【主权项】：
1.一种防污性薄膜，其具备在表面具有凹凸构造的聚合体层，所述凹凸构造为多个凸部以可见光波长以下的间隔设置，所述聚合体层含有碳原子、氮原子、氧原子以及氟原子作为构成原子，通过X射线光电子能谱法测量的氟原子数相对于碳原子数、氮原子数、氧原子数以及氟原子数的总数的比例为在所述凹凸构造的表面为33atom％以上，往深度方向远离所述凹凸构造的表面90～120nm的区域的平均值为3atom％以下，通过X射线光电子能谱法测量的氮原子数相对于碳原子数、氮原子数、氧原子数以及氟原子数的总数的比例在往深度方向远离所述凹凸构造的表面90～120nm的区域的平均值为4atom％以下。
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