[发明专利]用于基板的真空处理的设备、用于基板的真空处理的系统、及用于在真空腔室中输送基板载具和掩模载具的方法在审
| 申请号： | 201780006027.3 | 申请日： | 2017-02-24 |
| 公开（公告）号： | CN108738330A | 公开（公告）日： | 2018-11-02 |
| 发明（设计）人： | 马蒂亚斯·海曼斯;斯特凡·班格特;奥利弗·海梅尔;安德烈亚斯·索尔;塞巴斯蒂安·巩特尔·臧 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/56 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本公开内容提供一种用于基板(10)的真空处理的设备(200)。设备(200)包括真空腔室、输送基板载具(120)的第一轨道布置(110)、输送掩模载具(140)的第二轨道布置(130)以及将基板载具(120)和掩模载具(140)相对于彼此定位的保持布置。第一轨道布置(110)包括经配置以在基板(10)的第一端(12)支撑基板载具(120)的第一部分和经配置以在与基板(10)的第一端(12)相对的基板(10)的第二端(14)支撑基板载具(120)的第二部分。第二轨道布置(120)包括经配置以在掩模(20)的第一端(22)支撑掩模载具(140)的另外第一部分和经配置以在与掩模(20)的第一端(22)相对的掩模(20)的第二端(24)支撑掩模载具(140)的另外第二部分。第一轨道布置(110)的第一部分和第二部分之间的第一距离(D)与第二轨道布置(130)的另外第一部分和另外第二部分之间的第二距离(D’)实质上相同。 | ||
| 搜索关键词： | 载具 掩模 轨道布置 基板 第一端 真空处理 输送基板 真空腔室 支撑基板 配置 基板载具 内容提供 支撑 | ||
【主权项】：
1.一种用于基板的真空处理的设备，包括：真空腔室；第一轨道布置，经配置以输送基板载具，且包括经配置以在所述基板的第一端支撑所述基板载具的第一部分和经配置以在与所述基板的第一端相对的所述基板的第二端支撑所述基板载具的第二部分；第二轨道布置，经配置以输送掩模载具，且包括经配置以在掩模的第一端支撑所述掩模载具的另外第一部分和经配置以在与所述掩模的第一端相对的所述掩模的第二端支撑所述掩模载具的另外第二部分，其中在所述第一轨道布置的所述第一部分和所述第二部分之间的第一距离与在所述第二轨道布置的所述另外第一部分和所述另外第二部分之间的第二距离实质上相同；和保持布置，经配置以将所述基板载具和所述掩模载具相对于彼此定位。
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