[发明专利]用于在二维的、快速退火的环境中直接曝光止焊漆的直接曝光装置在审
| 申请号： | 201780007345.1 | 申请日： | 2017-01-20 |
| 公开（公告）号： | CN108605413A | 公开（公告）日： | 2018-09-28 |
| 发明（设计）人： | 马蒂亚斯·纳格尔 | 申请（专利权）人： | 利玛塔有限公司 |
| 主分类号： | H05K3/00 | 分类号： | H05K3/00;G03F7/20;H05K3/06 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 丁永凡;李建航 |
| 地址： | 德国伊*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明一般性地涉及一种曝光装置，尤其用于对用止焊漆覆层的基底进行曝光和结构化的曝光装置(20)，以及涉及用于借助根据本发明的曝光装置(20)进行曝光的方法。尤其地，本发明涉及一种曝光装置(20)，所述曝光装置具有至少一个光束(51)，所述光束优选由不同的UV波长的两个或更多个激光束(51)形成，所述光束通过可改变的偏转装置(30)相对于基底(100)偏转，以便在基底(100)上产生结构。尤其地，为光束(51)空间上在图像平面(40)中并且时间上在曝光时将空间限制的、高能的优选外部支承的热源(10)与光束(51)叠加，其中优选使用具有行式光学装置的红外激光二极管。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光装置 基底 优选 曝光 红外激光二极管 偏转 光束通过 光学装置 空间限制 快速退火 偏转装置 图像平面 激光束 结构化 可改变 波长 热源 二维 覆层 支承 叠加 外部 | ||
【主权项】：
1.一种直接曝光装置(1)，所述直接曝光装置用于直接地、优选无掩模地曝光或硬化止焊漆(5)中的期望的结构，所述直接曝光装置具有：至少一个曝光装置(10)，所述曝光装置具有至少一个用于产生UV激光光束的UV激光光源，和偏转装置(30)，所述偏转装置设计用于，将所述UV激光光束偏转到曝光平面(40)上，以便曝光所述止焊漆(5)中的所述期望的结构，所述期望的结构设置在所述曝光平面(40)中，其特征在于，所述直接曝光装置(1)具有热源装置(20)，所述热源装置设计成，使得由经过偏转的所述UV激光光束(51)和由所述热源装置(20)发射的热辐射在空间上和在时间上叠加地曝光所述曝光平面(40)中的区域(11)。
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