[发明专利]阴图制版平版印版前体和方法有效

专利信息
申请号: 201780008918.2 申请日: 2017-01-12
公开(公告)号: CN108602344B 公开(公告)日: 2021-01-08
发明(设计)人: 林浩司;J.R.马茨;石井里志;关口孔明;神谷昌道 申请(专利权)人: 伊斯曼柯达公司
主分类号: B41C1/10 分类号: B41C1/10
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 张萍;周李军
地址: 美国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 可使对红外辐射敏感的阴图制版平版印版前体成像并在机显影,以提供平版印版。此类前体具有引发剂组合物,该组合物含有结构(I)的化合物A和统称为化合物B的一种或更多种结构(II)或结构(III)的化合物:,其中R1、R2、R3、R4、R5和R6独立为各自具有2~9个碳原子的烷基或烷氧基;R3和R4至少之一不同于R1或R2;R1和R2中的碳原子总数与R3和R4中的碳原子总数之间的差异为0~4;R1和R2中的碳原子总数与R5和R6中的碳原子总数之间的差异为0~4;且X1、X2和X3为相同的或不同的阴离子。
搜索关键词: 制版 平版 印版前体 方法
【主权项】:
1.对红外辐射敏感的阴图制版平版印版前体,其包含:具有亲水表面的衬底,和对红外辐射敏感的可成像层,其布置在所述衬底的所述亲水表面上,并包含:一种或更多种可自由基聚合的化合物;一种或更多种红外辐射吸收剂;引发剂组合物,其在所述对红外辐射敏感的可成像层暴露于红外辐射时提供自由基,所述引发剂组合物包含由以下结构(I)代表的化合物A和统称为化合物B的一种或更多种由以下结构(II)或结构(III)代表的化合物;以及主要聚合物粘合剂,其中:R1、R2、R3、R4、R5和R6独立为各自具有2~9个碳原子的取代或未取代的烷基或取代或未取代的烷氧基;R3和R4至少之一不同于R1或R2;R1和R2中的碳原子总数与R3和R4中的碳原子总数之间的差异为0~4;R1和R2中的碳原子总数与R5和R6中的碳原子总数之间的差异为0~4;以及X1、X2和X3为相同或不同的阴离子。
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