[发明专利]阴图制版平版印版前体和方法有效
申请号: | 201780008918.2 | 申请日: | 2017-01-12 |
公开(公告)号: | CN108602344B | 公开(公告)日: | 2021-01-08 |
发明(设计)人: | 林浩司;J.R.马茨;石井里志;关口孔明;神谷昌道 | 申请(专利权)人: | 伊斯曼柯达公司 |
主分类号: | B41C1/10 | 分类号: | B41C1/10 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 张萍;周李军 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: |
可使对红外辐射敏感的阴图制版平版印版前体成像并在机显影,以提供平版印版。此类前体具有引发剂组合物,该组合物含有结构(I)的化合物A和统称为化合物B的一种或更多种结构(II)或结构(III)的化合物: |
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搜索关键词: | 制版 平版 印版前体 方法 | ||
【主权项】:
1.对红外辐射敏感的阴图制版平版印版前体,其包含:具有亲水表面的衬底,和对红外辐射敏感的可成像层,其布置在所述衬底的所述亲水表面上,并包含:一种或更多种可自由基聚合的化合物;一种或更多种红外辐射吸收剂;引发剂组合物,其在所述对红外辐射敏感的可成像层暴露于红外辐射时提供自由基,所述引发剂组合物包含由以下结构(I)代表的化合物A和统称为化合物B的一种或更多种由以下结构(II)或结构(III)代表的化合物;以及主要聚合物粘合剂,
其中:R1、R2、R3、R4、R5和R6独立为各自具有2~9个碳原子的取代或未取代的烷基或取代或未取代的烷氧基;R3和R4至少之一不同于R1或R2;R1和R2中的碳原子总数与R3和R4中的碳原子总数之间的差异为0~4;R1和R2中的碳原子总数与R5和R6中的碳原子总数之间的差异为0~4;以及X1、X2和X3为相同或不同的阴离子。
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