[发明专利]光学相位差构件、具备光学相位差构件的复合光学构件、及光学相位差构件的制造方法有效
| 申请号： | 201780009759.8 | 申请日： | 2017-01-31 |
| 公开（公告）号： | CN108603972B | 公开（公告）日： | 2020-11-24 |
| 发明（设计）人： | 后藤正直;须崎吾郎;田中大直 | 申请（专利权）人： | JXTG能源株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;G02F1/13363 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 王涛;汤在彦 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
光学相位差构件100具备：透明基体40，其具有凹凸图案80；相位差调整层35，其形成于上述凹凸图案80的凹部70及凸部60的表面；被覆层30，其被覆上述相位差调整层35；间隙部90，其划分于上述凹凸图案80的上述凸部60间，该凹凸图案80是形成了上述相位差调整层35及被覆层30的；及密闭层20，其以将上述凹凸图案80的上述凸部60的顶部60t连结且将上述间隙部90密闭的方式设置于上述凹凸图案80的上部；上述凸部60的折射率n |
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| 搜索关键词： | 光学 相位差 构件 具备 复合 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光学相位差构件，其特征在于，其具备：透明基体，其具有凹凸图案；相位差调整层，其形成于所述凹凸图案的凹部及凸部的表面；被覆层，其被覆所述相位差调整层；间隙部，其划分于所述凹凸图案的所述凸部间，该凹凸图案形成了所述相位差调整层及所述被覆层；及密闭层，其是以将所述凹凸图案的所述凸部的顶部连结且将所述间隙部密闭的方式设置于所述凹凸图案的上部；所述凸部的折射率n1、所述相位差调整层的折射率n2、所述被覆层的折射率n3满足n1＜n2＜n3。
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