[发明专利]金属板、沉积用掩模及其制造方法有效
| 申请号： | 201780011646.1 | 申请日： | 2017-01-31 |
| 公开（公告）号： | CN108701776B | 公开（公告）日： | 2020-09-22 |
| 发明（设计）人： | 韩太勋;金南昊;卢健镐;朴宰奭;李相范 | 申请（专利权）人： | LG伊诺特有限公司 |
| 主分类号： | H01L51/56 | 分类号： | H01L51/56;H01L51/00;C23C14/04 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 蔡胜有;苏虹 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
根据一个实施方案的用于制造沉积用掩模的金属板包括：通过距离金属板的表面1μm或更小的厚度限定的外层；和除外层之外的内层，其中外层的蚀刻速率比内层的蚀刻速率慢，以及其中当在用包含35重量％至45重量％的FeCl |
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| 搜索关键词： | 金属板 沉积 用掩模 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于制造沉积用掩模的金属板，所述金属板包括：通过从所述金属板的表面至所述金属板内部1μm的厚度范围限定的外层；和除所述外层之外的内层，其中当通过使用包含35重量％至45重量％的FeCl3的蚀刻剂在45℃下从所述金属板的表面进行蚀刻时，所述外层的蚀刻速率小于或等于0.03μm/秒，以及所述内层的蚀刻速率为0.03μm/秒至0.05μm/秒。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件；专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的；具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射；专门适用于将这些辐射能转换为电能，或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的，如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
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