[发明专利]衬底处理系统及光刻设备有效
| 申请号： | 201780013362.6 | 申请日： | 2017-02-09 |
| 公开（公告）号： | CN108700827B | 公开（公告）日： | 2020-07-24 |
| 发明（设计）人： | M·J·沃奥尔戴尔冬克;J·洛夫 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/677 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王静 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供一种用于处理衬底(W)的衬底处理系统(200)，所述衬底处理系统包括保持装置(202)、旋转装置(206)及移动装置(204)。所述保持装置用于保持所述衬底。所述旋转装置用于使所述保持装置围绕垂直于平面的轴线(208)旋转。所述移动装置用于使所述保持装置相对于所述轴线沿着所述平面中的路径移动。另外，提供一种包括所述衬底处理系统的光刻设备。所述衬底处理系统可以包括被布置成在第一情形中将所述保持装置耦接至所述移动装置和所述旋转装置中的一个的耦接装置(210)。所述耦接装置可以被布置成在第二情形中将所述保持装置与所述移动装置和所述旋转装置中的所述一个解耦。 | ||
| 搜索关键词： | 衬底 处理 系统 光刻 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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