[发明专利]用于处理基板的设备、处理系统和方法在审
| 申请号： | 201780015869.5 | 申请日： | 2017-05-16 |
| 公开（公告）号： | CN109257933A | 公开（公告）日： | 2019-01-22 |
| 发明（设计）人： | 约翰·M·怀特;岭·灿;拉尔夫·林登贝格 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C14/50;C23C16/458;C23C16/54;H01L21/677 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 叙述一种用于处理基板的设备(100)。该设备包含第一真空处理装置(101)、第二真空处理装置(102)、和支撑结构(103)，该支撑结构(103)配置在第一真空处理装置(101)和第二真空处理装置(102)之间的大气空间(108)中。 | ||
| 搜索关键词： | 真空处理装置 处理基板 支撑结构 处理系统 大气空间 配置 | ||
【主权项】：
1.一种用于处理基板的设备(100)，包括：第一真空处理装置(101)；第二真空处理装置(102)；和支撑结构(103)，配置在所述第一真空处理装置(101)和所述第二真空处理装置(102)之间的大气空间(108)中。
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