[发明专利]薄膜晶体管的制造方法及用于该制造方法的掩模

摘要

本发明提供一种薄膜晶体管的制造方法及用于该制造方法的掩模，所述薄膜晶体管的制造方法包含对成膜于基板上的非晶硅膜(8)照射激光的处理，其包含：激光退火工序，对所述非晶硅膜(8)中包含沟道区域(52)的形成区域的区域照射所述激光，使包含所述形成区域的区域加热熔融使其再结晶化，由此形成包含所述沟道区域(52)的多晶硅膜(9)；以及将所述多晶硅膜(9)中的所述沟道区域(52)以外的区域通过蚀刻除去的工序。由此，本发明即使在限定激光的照射条件的状况下，也能够进一步促进非晶硅膜(8)的再结晶化，能够进一步提高移动度。

主权项

1.一种薄膜晶体管的制造方法，包含对成膜于基板上的非晶硅膜照射激光的处理，其特征在于，包含：激光退火工序，对所述非晶硅膜中包含沟道区域的形成区域的区域照射所述激光，使包含所述形成区域的区域加热熔融使其再结晶化，由此形成包含所述沟道区域的多晶硅膜；将所述多晶硅膜中的所述沟道区域以外的区域通过蚀刻除去的工序。