[发明专利]制造EUV投射曝光系统的照明系统的方法和照明系统

摘要

本发明涉及一种制造EUV系统的照明系统的方法，该方法包括以下步骤：将照明系统的反射镜模块安装在提供给反射镜模块的安装位置处，以便确立从源位置引导到照明场的照明束路径，其中该反射镜模块包括第一安装位置处具有第一分面反射镜的第一反射镜模块和照明系统的第二安装位置处具有第二分面反射镜的第二反射镜模块；在照明束路径的第一反射镜模块之前的输入耦合位置处将测量光耦合到照明束路径中；在测量光在照明束路径的反射镜模块中的每一个处反射之后，检测测量光；从检测的测量光来确定至少一个系统测量变量的实际测量值，其中实际测量值表示照明系统的系统测量变量的实际状态；通过使用灵敏度从实际测量值来确定校正值，该灵敏度表示系统测量变量和至少一个反射镜模块在其安装位置的情形的变化之间的关系；通过使用校正值调整至少一个反射镜模块，致使改变刚性主体的自由度上安装位置中的反射镜模块的情形，以便于改变实际状态使得在辐射进EUV辐射源的EUV辐射的情况下，照明场中的照明辐射满足照明规范。

主权项

1.一种制造EUV设备的照明系统的方法，其中在所述EUV设备的操作期间，所述照明系统实施为在入射平面中的源位置处接收EUV辐射源(LS)的EUV辐射(LR)，并且实施为从接收的EUV辐射中的至少一部分使照明辐射成形，所述照明辐射被指引到所述照明系统的出射平面(ES)中的照明场中且在所述照明场中满足照明规范，所述方法具有以下步骤：在提供给反射镜模块的安装位置处安装所述照明系统的反射镜模块，以确立从所述源位置延伸到所述照明场的照明束路径，其中所述反射镜模块包括第一安装位置处具有第一分面反射镜的第一反射镜模块和所述照明系统的第二安装位置处具有第二分面反射镜的第二反射镜模块；在所述照明束路径的第一反射镜模块的上游的输入耦合位置处将测量光耦合到所述照明束路径中；在所述测量光在所述照明束路径的反射镜模块中的每一个处的反射之后，检测所述测量光；从检测的测量光来确定至少一个系统测量变量的当前测量值，其中所述当前测量值表示所述照明系统的系统测量变量的当前状态；使用灵敏度从所述当前测量值来确定校正值，所述灵敏度表示所述系统测量变量和至少一个反射镜模块在其安装位置的取向的变化之间的关系；使用所述校正值，在刚性主体的自由度上所述安装位置的反射镜模块的取向变化的情况下，调整至少一个反射镜模块，以改变所述当前状态，使得在具有来自所述EUV辐射源的EUV辐射的辐照情况下，所述照明场中的照明辐射满足所述照明规范。