[发明专利]晶片缺陷检查及审查系统有效
| 申请号： | 201780020550.1 | 申请日： | 2017-01-30 |
| 公开（公告）号： | CN109073565B | 公开（公告）日： | 2022-03-15 |
| 发明（设计）人： | 张时雨 | 申请（专利权）人： | 科磊股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/95 | 分类号： | G01N21/95;G01N21/88;G01N21/47 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 张世俊 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明揭示成像物镜及配备有此类成像物镜的检查系统。所述成像物镜可包含前物镜，所述前物镜经配置以产生受衍射限制的中间图像。所述成像物镜还可包含中继器，所述中继器经配置以接收由所述前物镜产生的所述中间图像。所述中继器可包含三个球面镜，所述球面镜经定位以将所述中间图像的投影传递到固定图像平面。 | ||
| 搜索关键词： | 晶片 缺陷 检查 审查 系统 | ||
【主权项】：
1.一种成像物镜，其包括：前物镜，其经配置以产生中间图像；及中继器，其经配置以接收由所述前物镜产生的所述中间图像，所述中继器包括三个球面镜，所述球面镜经定位以将所述中间图像的投影传递到固定图像平面。
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