[发明专利]用于对对象进行X射线成像的装置在审
| 申请号： | 201780021013.9 | 申请日： | 2017-06-16 |
| 公开（公告）号： | CN109414232A | 公开（公告）日： | 2019-03-01 |
| 发明（设计）人： | R·K·O·贝林 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦有限公司 |
| 主分类号： | A61B6/00 | 分类号： | A61B6/00;G01N23/04 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 李光颖;王英 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于对对象进行成像的装置(10)。描述了相对于至少一个X射线源定位(210)X射线探测器，使得所述至少一个X射线源与所述X射线探测器之间的区域的至少部分是用于容纳对象的检查区域。在第一操作模式中，利用所述至少一个X射线源，产生(220)第一焦斑，使得在所述第一焦斑处产生的至少一些第一X射线穿过干涉仪布置的第一光栅，并且使得所述至少一些第一X射线穿过所述干涉仪布置的第二光栅，所述第一光栅被定位在第一位置处，所述第二光栅被定位在第二位置处。在所述第一操作模式中，所述至少一些第一X射线利用探测器位置处的所述X射线探测器来探测(230)。在第二操作模式中，利用所述至少一个X射线源，产生(240)第二焦斑，使得在所述第二焦斑处产生的至少一些第二X射线避开所述第一位置处的所述第一光栅。在所述第二操作模式中，所述至少一些第二X射线利用所述探测器位置处的所述X射线探测器来探测(250)。 | ||
| 搜索关键词： | 光栅 操作模式 焦斑 探测器位置 第一位置 干涉仪 探测 穿过 第二位置 检查区域 成像 避开 容纳 | ||
【主权项】：
1.一种用于对对象进行X射线成像的装置(10)，包括：‑至少一个X射线源(20)；‑X射线干涉仪布置(30)；‑X射线探测器(40)；其中，所述X射线探测器被配置为相对于所述至少一个X射线源被定位，使得所述至少一个X射线源与所述X射线探测器之间的区域的至少部分是用于容纳对象的检查区域(50)；其中，所述X射线干涉仪布置包括第一光栅(32)和第二光栅(34)；其中，在第一操作模式中，所述至少一个X射线源被配置为产生第一焦斑(21)，并且所述至少一个X射线源被配置为产生X射线，使得在所述第一焦斑处产生的至少一些第一X射线穿过第一位置处的所述第一光栅并且穿过第二位置处的所述第二光栅，其中，探测器位置处的所述X射线探测器被配置为探测所述至少一些第一X射线；以及其中，在第二操作模式中，所述至少一个X射线源被配置为产生第二焦斑(22)，并且所述至少一个X射线源被配置为产生X射线，使得在所述第二焦斑处产生的至少一些第二X射线避开所述第一位置处的所述第一光栅，其中，所述探测器位置处的所述X射线探测器被配置为探测所述至少一些第二X射线。
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