[发明专利]真空处理装置在审
| 申请号： | 201780021217.2 | 申请日： | 2017-11-01 |
| 公开（公告）号： | CN108884561A | 公开（公告）日： | 2018-11-23 |
| 发明（设计）人： | 南展史;铃木杰之;武者和博;中尾裕利;佐藤诚一 | 申请（专利权）人： | 株式会社爱发科 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C14/34;C23C14/50;H01L21/677 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 朱美红;刘林华 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 提供一种设置面积较小的真空处理装置。在真空槽（12）的内部配置升降板（15），将基板保持装置（27）配置到升降板（15）上而使其能够升降移动。在位于升降板（15）升降移动的升降区域（12b）的侧方的处理区域（12a）内设置上方侧处理装置（40）和下方侧处理装置（50），借助上方侧移动装置（35）和下方侧移动装置（36），使基板保持装置（27）穿过处理区域（12a）内，借助交接装置（37），在上方侧移动装置（35）或下方侧移动装置（36）与升降板（15）之间进行基板保持装置（27）的交接。由于能够在上方侧和下方侧进行真空处理，所以真空处理装置（10）的设置面积较小。 | ||
| 搜索关键词： | 侧移动 升降板 基板保持装置 真空处理装置 处理区域 处理装置 升降移动 交接装置 升降区域 真空处理 真空槽 侧方 配置 交接 穿过 | ||
【主权项】：
1.一种真空处理装置，其特征在于，具有：真空槽，被运入运出基板保持装置，所述基板保持装置将处理对象物使处理面露出而配置；升降装置，使配置在升降板上的前述基板保持装置在前述真空槽内升降移动；上方侧移动装置，在前述真空槽内的上方侧使前述基板保持装置在横向上移动；下方侧移动装置，在前述真空槽内的下方侧使前述基板保持装置在横向上移动；以及交接装置，在前述升降板与前述上方侧移动装置及前述下方侧移动装置之间交接前述基板保持装置；借助上方侧处理装置，对配置于由前述上方侧移动装置移动的前述基板保持装置的前述处理对象物进行真空处理，借助下方侧处理装置，对配置于由前述下方侧移动装置移动的前述基板保持装置的前述处理对象物进行真空处理。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社爱发科，未经株式会社爱发科许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201780021217.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
