[发明专利]表面处理方法及表面处理液有效
申请号: | 201780021452.X | 申请日: | 2017-03-23 |
公开(公告)号: | CN108885397B | 公开(公告)日: | 2022-03-01 |
发明(设计)人: | 先崎尊博 | 申请(专利权)人: | 东京应化工业株式会社 |
主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004;B05D3/06;C09K3/00;C09K3/18 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 杨宏军;焦成美 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供:能进行被处理物的表面的良好的亲水化或疏水化、能在被处理物上形成表面处理效果高的区域、和表面处理效果低的区域的表面处理方法;以及可在该表面处理方法中合适地使用的表面处理液。在对已被实施了曝光及烘烤的由感光性表面处理液形成的涂布膜进行清洗、形成膜厚10nm以下的具有表面改性功能的薄膜的表面处理方法中,在感光性表面处理液中含有(A)树脂、(B)光产酸剂、和(C)溶剂,作为(A)树脂,使用具有作为选自由羟基、氰基、及羧基组成的组中的1种以上的基团的官能团I、和作为官能团I以外的亲水性基团或疏水性基团的官能团II的树脂,并且,作为(B)光产酸剂,使用通过光的作用而产生pKa为1以下的强酸的化合物。 | ||
搜索关键词: | 表面 处理 方法 | ||
【主权项】:
1.表面处理方法,其是使用了感光性表面处理液的表面处理方法,其包括下述步骤:向被处理物的表面涂布所述感光性表面处理液而形成涂布膜的步骤,对所述涂布膜的至少一部分进行曝光的步骤,对已被曝光的所述涂布膜进行烘烤的步骤,以及对已被烘烤的所述涂布膜进行清洗,在所述被处理物的表面的已被曝光的位置形成膜厚10nm以下的薄膜的步骤,所述感光性表面处理液包含(A)树脂、(B)光产酸剂、和(C)溶剂,所述(A)树脂具有作为选自由羟基、氰基、及羧基组成的组中的1种以上的基团的官能团I、和作为所述官能团I以外的亲水性基团或疏水性基团的官能团II,所述(B)光产酸剂产生pKa为1以下的强酸。
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