[发明专利]光学元件和包括该光学元件的光学组件有效
申请号: | 201780026114.5 | 申请日: | 2017-03-28 |
公开(公告)号: | CN109154680B | 公开(公告)日: | 2021-09-14 |
发明(设计)人: | C.格拉斯;O.迪尔;J.韦伯;R.温特 | 申请(专利权)人: | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
主分类号: | G02B1/16 | 分类号: | G02B1/16;G21K1/06;G02B5/08;G03F7/20 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 邱军 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及一种光学元件(14),特别是EUV光刻的光学元件(14),其包括:基板(15)、施加到基板(15)上的反射涂层(16)和导电涂层(19),该导电涂层(19)在基板(15)和反射涂层(16)之间延伸并且具有拉张应力下的至少一个第一层(22a)和压缩应力下的至少一个第二层(22b)。该导电涂层(19)具有在基板(15)上横向延伸超出反射涂层(16)的至少一个段(20)。本发明还涉及光学组件、特别是EUV光刻系统,其包括这种类型的至少一个光学元件(14)。 | ||
搜索关键词: | 光学 元件 包括 组件 | ||
【主权项】:
1.一种光学元件(14),特别是EUV光刻的光学元件(14),包括:基板(15),在所述基板(15)上施加的反射涂层(16),以及在所述基板(15)和所述反射涂层(16)之间延伸的导电涂层(19),其中所述导电涂层(19)具有拉张应力下的至少一个第一层(22a)和压缩应力下的至少一个第二层(22b),并且其中所述导电涂层(19)具有在所述基板(15)上横向延伸超出所述反射涂层(16)的至少一个段(20)。
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