[发明专利]用于生产经涂覆的基底的方法、经涂覆的基底及其用途

摘要

本发明涉及用于生产经涂覆的非金属基底和经涂覆的金属基底的方法。所述方法的变体的特征在于，无光泽涂层或光泽涂层在通过使用气相沉积和/或溅射获得的金属层下面，而在另一方法变体中，通过使用气相沉积和/或溅射获得的金属层必须足够薄，使得其对可见光保持透明或半透明。本发明还涉及具有上述层的经涂覆的非金属基底和经涂覆的金属基底。本发明还涉及所述经涂覆的非金属基底和经涂覆的金属基底的用途。

主权项

1.用于制造经涂覆的非金属基底、尤其是塑料基底的方法，包括a)提供非金属基底，尤其是塑料基底，所述基底具有能够在至少一部分区域被涂覆的至少一个表面，b)提供用于涂覆金属层的涂覆系统，尤其是真空气相沉积系统或溅射系统，c)提供至少一个等离子发生器和/或至少一个电晕系统，尤其是在所述用于涂覆金属层的涂覆系统中或作为其组件，所述涂覆系统例如所述真空气相沉积系统或溅射系统，d)任选地，对所述非金属基底、尤其是所述塑料基底，或者对所述非金属基底的可涂覆表面、尤其是所述塑料基底的可涂覆表面，用所述等离子发生器进行等离子处理和/或进行电晕处理，e)任选地，用至少一种有机硅化合物、尤其是通过使用等离子聚合，处理步骤a)或d)获得的所述非金属基底，尤其是所述塑料基底，或者处理所述非金属基底的可涂覆表面，尤其是所述塑料基底的可涂覆表面，因此形成聚硅氧烷层，f)任选地，对步骤e)的所述聚硅氧烷层用所述等离子发生器进行等离子处理和/或进行电晕处理，g)任选地，将至少一层任选着色的底涂层涂覆至步骤a)或d)的所述非金属基底、尤其是所述塑料基底上，或者涂覆至步骤a)或d)的所述非金属基底的可涂覆表面上、尤其是所述塑料基底的可涂覆表面上，或者涂覆至步骤e)或f)的所述聚硅氧烷层上，h)任选地，对步骤g)的所述底涂层用所述等离子发生器进行等离子处理和/或进行电晕处理，i)任选地，用至少一种有机硅化合物、尤其是通过使用等离子聚合，处理步骤g)或h)获得的所述底涂层，因此形成聚硅氧烷层，j)任选地，对步骤i)的所述聚硅氧烷层用所述等离子发生器进行等离子处理和/或进行电晕处理，j‑k)涂覆至少一层无光泽涂层、尤其是无光泽着色涂层，例如无光泽漆，尤其是根据DIN EN ISO 2813:2014(发布日期：2015‑02)分别测定的具有光泽等级“中等光泽”(G2)或优选具有光泽等级“无光泽”(G3)的涂层，或者涂覆至少一层光泽涂层、尤其是光泽着色涂层，例如光泽漆，尤其是根据DIN EN ISO 2813:2014(发布日期：2015‑02)测定的具有光泽等级“光泽”(G1)的涂层，优选地涂覆所述无光泽涂层，k)用所述涂覆系统，尤其是通过使用气相沉积和/或溅射技术，将至少一层金属层涂覆至步骤j‑k)的所述涂层上，所述金属层含有第一金属或由第一金属组成，所述第一金属选自铝、银、金、铅、钒、锰、镁、铁、钴、镍、铜、铬、钯、钼、钨、铂、钛、锆和锌，尤其是铝，或者所述金属层含有第一金属合金或由第一金属合金组成，所述第一金属合金选自黄铜，青铜，钢，尤其是特殊钢，铝、镁和钛的合金，l)任选地，对步骤k)的所述金属层用所述等离子发生器进行等离子处理和/或进行电晕处理，m)优选地用至少一种有机硅化合物、尤其是通过使用等离子聚合，处理步骤k)或l)获得的所述金属层，因此形成聚硅氧烷层，n)优选地对步骤m)的所述聚硅氧烷层用所述等离子发生器进行等离子处理和/或进行电晕处理，以及o)将至少一层外涂层、尤其是透明和/或着色的外涂层涂覆至步骤k)、l)、m)或n)的所述层上，尤其是涂覆至步骤n)的所述经处理的聚硅氧烷层上。