[发明专利]细胞培养基质、细胞内含物的制备方法、细胞培养基质的制备方法有效
| 申请号： | 201780030554.8 | 申请日： | 2017-05-18 |
| 公开（公告）号： | CN109153960B | 公开（公告）日： | 2022-08-26 |
| 发明（设计）人： | 犬井正彦;茶谷直;多贺谷基博;本塚智 | 申请（专利权）人： | 株式会社小原;国立大学法人长冈技术科学大学;独立行政法人国立高等专门学校机构 |
| 主分类号： | C12M3/00 | 分类号： | C12M3/00;C12M1/34;C12N1/00;C12N5/07 |
| 代理公司： | 北京博雅睿泉专利代理事务所(特殊普通合伙) 11442 | 代理人： | 马佑平 |
| 地址： | 日本神奈川县相模原*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的目的在于提供一种耐培养液性良好、细胞毒性低，且所培养细胞的黏着率和细胞存活率高、热稳定性良好，而且难以吸收紫外线的细胞培养基质。在包含由无机材料组成的基板的细胞培养基质中，细胞培养基质在培养面上具有多个凹凸结构，在依据JISB0601以及JISR1683并使用原子力显微镜测量凹凸结构时(测量区域为1μm四方，低通轮廓曲线滤波器的截断值为1nm，高通轮廓曲线滤波器的截断值为170nm)，至少在一个方向上的凹凸结构的轮廓曲线元素的平均长度是1～170nm(平均线是在根据最小二乘法将曲线修正为直线时，与其直线平行，且表示轮廓曲线中高度的累计相对频率分布为50％的线，其中，曲线表示被所述高通轮廓曲线滤波器阻断的长波长成分)。 | ||
| 搜索关键词： | 细胞培养 基质 细胞 内含 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种细胞培养基质，包含由无机材料组成的基板，其特征在于，所述细胞培养基质在培养面上具有多个凹凸结构，在依据JISB0601以及JISR1683并使用原子力显微镜测量所述凹凸结构时(测量区域为1μm四方，低通轮廓曲线滤波器的截断值为1nm，高通轮廓曲线滤波器的截断值为170nm)，至少在一个方向上的所述凹凸结构的轮廓曲线元素的平均长度是1～170nm(平均线是在根据最小二乘法将曲线修正为直线时，与其直线平行，且表示轮廓曲线中高度的累计相对频率分布为50％的线，其中，所述曲线表示被所述高通轮廓曲线滤波器阻断的长波长成分)。
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