[发明专利]光学层叠体有效
| 申请号： | 201780033030.4 | 申请日： | 2017-07-10 |
| 公开（公告）号： | CN109196390B | 公开（公告）日： | 2021-08-03 |
| 发明（设计）人： | 堀尾智之;中岛正隆;中村启志;野村崇尚;篠原诚司;松井清隆;大岛研太郎;久保山聪;小野行弘 | 申请（专利权）人： | 大日本印刷株式会社;迪睿合株式会社 |
| 主分类号： | G02B1/14 | 分类号： | G02B1/14;B32B27/18;B32B27/20;G02B1/115 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 庞东成;王博 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的目的在于提供一种光学层叠体，其层间的密合性优异，特别是即便在室外使用的情况下层间的密合性也优异，抗粘连性也极其优异。本发明涉及一种光学层叠体，该光学层叠体在基材膜的至少一个面上具有包含二氧化硅微粒的硬涂层，在上述硬涂层的与上述基材膜侧相反侧的面上具有干膜层，该光学层叠体的特征在于，上述二氧化硅微粒从上述硬涂层的上述干膜层侧表面露出，上述干膜层直接层叠在上述二氧化硅微粒露出的上述硬涂层表面，设置上述干膜层前，在硬涂层的上述干膜层设置侧的表面形成有凹凸形状，在上述硬涂层的厚度方向的截面中，在厚度方向上从上述干膜侧界面起至10％厚度为止的范围内任意选择10处0.2μm×0.2μm的区域，上述10处区域中的上述二氧化硅微粒的存在比的平均值为30％～80％，并且上述10处区域中的上述二氧化硅微粒的存在比的标准偏差为1～7，通过X射线光电子能谱分析测定的上述硬涂层的与上述基材膜侧相反一侧表面中的硅原子的存在率A为2％～10％。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 层叠 | ||
【主权项】：
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