[发明专利]原子层生长装置及原子层生长方法有效
申请号: | 201780035105.2 | 申请日: | 2017-04-24 |
公开(公告)号: | CN109312459B | 公开(公告)日: | 2020-12-18 |
发明(设计)人: | 鹫尾圭亮;松本竜弥 | 申请(专利权)人: | 株式会社日本制钢所 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;H01L21/31;H01L21/316;H01L51/50;H05B33/04;H05B33/10 |
代理公司: | 北京国昊天诚知识产权代理有限公司 11315 | 代理人: | 南霆;程爽 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种原子层生长装置,具有:成膜容器(11),其进行成膜处理;能够上下移动的载物台(14),其设置在成膜容器(11)内,并保持基板(100);载物台停止器(17),其使载物台(14)的上升停止,并通过与载物台(14)的接触而划分出进行上述成膜处理的成膜空间(S)和进行基板(100)的搬送的搬送空间;周边部载物台防附着材料(15),其覆盖载物台(14)的周边部;载物台停止器防附着材料(24),其设置在载物台停止器(17)上。 | ||
搜索关键词: | 原子 生长 装置 方法 | ||
【主权项】:
1.一种原子层生长装置,其特征在于,具有:成膜容器,其对基板进行成膜处理;载物台,其能够上下移动且设置在所述成膜容器内,并保持所述基板;载物台停止器,其使所述载物台的上升停止,并通过与所述载物台的接触而划分出进行所述成膜处理的成膜空间和进行所述基板的搬送的搬送空间;第一载物台防附着材料,其覆盖所述载物台的周边部;载物台停止器防附着材料,其设置在所述载物台停止器上。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的