[发明专利]辐射源有效
| 申请号： | 201780035989.1 | 申请日： | 2017-06-01 |
| 公开（公告）号： | CN109313404B | 公开（公告）日： | 2021-02-05 |
| 发明（设计）人： | N·库马尔;S·R·胡伊斯曼 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G02F1/365;G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王静 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用于对准标记测量系统的超连续谱辐射源包括：辐射源；照射光学器件；多个波导；和收集光学器件。辐射源能够操作以产生脉冲辐射束。照射光学器件布置成接收脉冲泵浦辐射束并形成多个脉冲子束，每个脉冲子束包括脉冲辐射束的一部分。多个波导中的每一个被布置成接收多个脉冲子束中的至少一个，并且加宽该脉冲子束的光谱，以便产生超连续谱子束。收集光学器件布置成从多个波导中的每一个接收超连续谱子束并将它们组合以便形成超连续谱辐射束。 | ||
| 搜索关键词： | 辐射源 | ||
【主权项】：
1.一种超连续谱辐射源，包括：照射光学器件，布置成接收脉冲泵浦辐射束并形成多个脉冲子束，每个脉冲子束包括所述脉冲泵浦辐射束的一部分；多个波导，每个波导布置成接收多个脉冲子束中的至少一个，并且加宽所述脉冲子束的光谱，以便产生超连续谱子束；以及收集光学器件，布置成从所述多个波导接收超连续谱子束并将它们组合以形成超连续谱辐射束。
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