[发明专利]具有畸变匹配的密集线极紫外光刻系统有效
| 申请号： | 201780037914.7 | 申请日： | 2017-06-15 |
| 公开（公告）号： | CN109690416B | 公开（公告）日： | 2021-12-21 |
| 发明（设计）人： | 麦可·B·宾纳德 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 王万影;黄纶伟 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种极紫外光刻系统(10)，其在工件(22)上产生具有多条密集填充平行线(332)的新图案(330)，所述系统(10)包括：图案化元件(16)；EUV照射系统(12)，该EUV照射系统将极紫外光束(13B)引导到所述图案化元件(16)处；投影光学组件(18)，该投影光学组件将从所述图案化元件(16)衍射的所述极紫外光束引导到所述工件(22)处，以在第一扫描(365)期间产生大致平行线(332)的第一条带(364)；以及控制系统(24)。所述工件(22)包括畸变的已有图案(233)。所述控制系统(24)在所述第一扫描(365)期间选择性地调节控制参数，使得所述第一条带(364)畸变成更精确地覆盖已有图案的位于所述第一条带(364)下的部分。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 畸变 匹配 密集 紫外 光刻 系统 | ||
【主权项】：
1.一种将平行线图案转移到包括已有图案的工件上的极紫外光刻系统，该光刻系统包括：工件台组件，该工件台组件保持并移动所述工件；EUV照射系统，该EUV照射系统将极紫外光束引导到限定所述平行线图案的图案化元件处；投影光学组件，该投影光学组件随着所述工件在第一扫描期间相对于曝光场移动，而将多条平行线的图像在该曝光场内投射并转移到所述工件上，所述曝光产生大致沿着第一轴延伸的所成像的多条线的第一条带；以及控制系统，该控制系统控制所述工件台组件在所述第一扫描期间沿着第一扫描轨迹相对于所述曝光场移动所述工件，所述第一扫描轨迹大致沿着所述第一轴；其中，所述控制系统在基板台组件的第一扫描期间选择性地调节控制参数，使得相对于不调节所述控制参数的情况，平行线的所述第一条带更精确地覆盖已有图案的位于平行线的所述第一条带下的部分。
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