[发明专利]抑制易脱分化的细胞的脱分化的方法、所述细胞的调制方法、及物质的产生方法有效
申请号: | 201780045716.5 | 申请日: | 2017-07-25 |
公开(公告)号: | CN109477069B | 公开(公告)日: | 2022-04-15 |
发明(设计)人: | 萩原昌彦;川口哲男;马场浩祐 | 申请(专利权)人: | 宇部兴产株式会社 |
主分类号: | C12N5/07 | 分类号: | C12N5/07;C12P21/02;C12M3/00 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及抑制易脱分化的细胞的脱分化的方法,包括(1)将上述细胞应用于聚合物多孔质膜的工序、及(2)培养上述细胞,使增殖的工序,其中,上述聚合物多孔质膜是有具有多个孔的表面层A及表面层B和夹在上述表面层A及表面层B之间的大空隙层的三层结构的聚合物多孔质膜,其中存在于上述表面层A的孔的平均孔径比存在于上述表面层B的孔的平均孔径小,上述大空隙层有与上述表面层A及B结合的隔壁和被所述隔壁以及上述表面层A及B包围的多个大空隙,在上述表面层A及B中的孔与上述大空隙连通。 | ||
搜索关键词: | 抑制 分化 细胞 方法 调制 物质 产生 | ||
【主权项】:
1.抑制易脱分化的细胞的脱分化的方法,其包括:(1)将上述细胞应用于聚合物多孔质膜的工序、及(2)培养上述细胞,使增殖的工序,其中,上述聚合物多孔质膜是有具有多个孔的表面层A及表面层B和夹在上述表面层A及表面层B之间的大空隙层的三层结构的聚合物多孔质膜,其中存在于上述表面层A的孔的平均孔径比存在于上述表面层B的孔的平均孔径小,上述大空隙层有与上述表面层A及B结合的隔壁和被所述隔壁以及上述表面层A及B包围的多个大空隙,在上述表面层A及B中的孔与上述大空隙连通。
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