[发明专利]带功能性细线的基材及功能性细线的形成方法在审
| 申请号： | 201780051574.3 | 申请日： | 2017-08-07 |
| 公开（公告）号： | CN109641417A | 公开（公告）日： | 2019-04-16 |
| 发明（设计）人： | 山内正好;大屋秀信;小俣猛宪;新妻直人 | 申请（专利权）人： | 柯尼卡美能达株式会社 |
| 主分类号： | B32B3/14 | 分类号： | B32B3/14;B32B27/36;H01B5/14;H01B13/00;H01L51/50;H05B33/02;H05B33/10;H05B33/22;H05B33/26;H05B33/28;H05K3/24 |
| 代理公司： | 北京正理专利代理有限公司 11257 | 代理人： | 付生辉 |
| 地址： | 日本国东京都*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供光学特性、功能性细线的密合性优异的带功能性细线的基材以及功能性细线的形成方法。本发明涉及的带功能性细线的基材在基材上具有由被疏水性改性了的聚酯树脂形成的底衬层，在该底衬层上具有由功能性微粒的堆积物形成的线宽为1μm以上10μm以下的功能性细线。本发明涉及的功能性细线的形成方法是在基材上形成由被疏水性改性了的聚酯树脂形成的底衬层，接着，在该底衬层上形成由功能性微粒的堆积物形成的线宽为1μm以上10μm以下的功能性细线。 | ||
| 搜索关键词： | 细线 基材 底衬层 功能性微粒 疏水性改性 聚酯树脂 堆积物 线宽 光学特性 密合性 | ||
【主权项】：
1.一种带功能性细线的基材，其特征在于，在基材上具有由被疏水性改性了的聚酯树脂形成的底衬层，在该底衬层上具有由功能性微粒的堆积物形成的线宽为1μm以上10μm以下的功能性细线。
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