[发明专利]半导体封装回流工序用聚酰亚胺薄膜及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201780052747.3 申请日: 2017-06-29
公开(公告)号: CN109661719B 公开(公告)日: 2023-02-28
发明(设计)人: 李启雄;朴浩荣;李泰硕 申请(专利权)人: IPI技术株式会社
主分类号: H01L21/48 分类号: H01L21/48;H01L21/02;H01L21/56;H01L23/488;H01L23/498;H01L23/00
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 吕琳;宋东颖
地址: 韩国大田*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明公开了半导体封装回流工序用聚酰亚胺薄膜及其制备方法,采用玻璃化转变温度为回流工序温度以下的热塑性聚酰亚胺层,从而可以确保回流工序结束后半导体芯片装拆的简易性。
搜索关键词: 半导体 封装 回流 工序 聚酰亚胺 薄膜 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种半导体封装回流工序用聚酰亚胺薄膜,其特征在于,包括:非热塑性聚酰亚胺层;热塑性聚酰亚胺层,层叠于上述非热塑性聚酰亚胺层上,具有回流工序温度以下的玻璃化转变温度;以及粘结层,附着于上述热塑性聚酰亚胺层上,上述热塑性聚酰亚胺层的表面经过羧基改性处理。
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