[发明专利]曝光装置和曝光方法在审
申请号: | 201780053508.X | 申请日: | 2017-08-23 |
公开(公告)号: | CN109690414A | 公开(公告)日: | 2019-04-26 |
发明(设计)人: | 富樫工;原田智纪;永井一马 | 申请(专利权)人: | 株式会社V技术 |
主分类号: | G03F7/22 | 分类号: | G03F7/22;G03F7/20 |
代理公司: | 北京奉思知识产权代理有限公司 11464 | 代理人: | 邹轶鲛;石红艳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 曝光装置包括:保持具有多个曝光区域(E1)~(E6)的基板(W)的基板保持部(2);保持形成有具有与曝光区域(E)大致相等大小的图案的掩模(M)的掩模保持部(1);能在预定的方向搬运基板(W)的基板搬运部(10);能在预定的方向搬运掩模(M)的掩模搬运部(40);能调整基板(W)与掩模(M)的对准的掩模驱动部(50);以及经由掩模(M)向曝光区域(E)照射曝光光束的照明装置(3)。 | ||
搜索关键词: | 掩模 曝光区域 搬运 曝光装置 基板 照射曝光光束 基板搬运部 基板保持部 调整基板 照明装置 相等 对准 图案 曝光 驱动 | ||
【主权项】:
1.一种曝光装置,其特征在于,包括:基板保持部,所述基板保持部保持具有多个曝光区域的作为被曝光材料的基板;掩模保持部,所述掩模保持部保持形成有具有与所述曝光区域大致相等大小的图案的掩模;基板搬运部,所述基板搬运部驱动所述基板保持部以能在预定的方向搬运所述基板;对准检测系统,所述对准检测系统检测设置在所述掩模和所述基板的对准用标记;掩模驱动部,所述掩模驱动部驱动所述掩模保持部以能调整所述基板与所述掩模的对准;掩模搬运部,所述掩模搬运部驱动载放所述掩模驱动部的驱动部载放台以能在所述预定的方向搬运所述掩模;以及照明装置,所述照明装置经由所述掩模在所述基板的所述曝光区域照射曝光光束。
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