[发明专利]研磨用组合物和研磨用组合物套组有效
| 申请号： | 201780053523.4 | 申请日： | 2017-08-29 |
| 公开（公告）号： | CN109673157B | 公开（公告）日： | 2021-05-07 |
| 发明（设计）人： | 土屋公亮;丹所久典;市坪大辉;浅田真希 | 申请（专利权）人： | 福吉米株式会社;东亚合成株式会社 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14;B24B37/00;H01L21/304;C09G1/02 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供对表面缺陷的降低有效的研磨用组合物。根据本发明所提供的研磨用组合物包含磨粒、水溶性高分子和碱性化合物。上述水溶性高分子包含满足下述条件(1)、(2)这两者的聚合物A。(1)在一分子中包含乙烯醇单元和非乙烯醇单元。(2)利用[(C1‑C2)/C1]×100计算出的吸附参数为5以上。此处，C1是包含上述聚合物A 0.017重量％、氨0.009重量％的试验液L1中所包含的有机碳的总量。上述C2是对包含BET直径35nm的胶体二氧化硅0.46重量％、上述聚合物A 0.017重量％、氨0.009重量％的试验液L2离心分离而使上述磨粒沉淀的上清液中所包含的有机碳的总量。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨 组合 物套组 | ||
【主权项】：
1.一种研磨用组合物，其包含磨粒、水溶性高分子和碱性化合物，所述水溶性高分子包含聚合物A，所述聚合物A满足以下的两个条件，(1)在一分子中包含乙烯醇单元和非乙烯醇单元；和、(2)利用下式计算出的吸附参数为5以上：吸附参数＝[(C1‑C2)/C1]×100；此处，所述式中的C1是试验液L1中包含的有机碳的总量，所述试验液L1包含所述聚合物A0.017重量％、氨0.009重量％，余量由水构成，所述式中的C2是将试验液L2离心分离而使所述磨粒沉淀的上清液中包含的有机碳的总量，所述试验液L2包含BET直径35nm的胶体二氧化硅0.46重量％、所述聚合物A0.017重量％、氨0.009重量％，余量由水构成。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于福吉米株式会社;东亚合成株式会社，未经福吉米株式会社;东亚合成株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201780053523.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
