[发明专利]光刻设备有效
| 申请号： | 201780053950.2 | 申请日： | 2017-07-28 |
| 公开（公告）号： | CN109661617B | 公开（公告）日： | 2021-07-30 |
| 发明（设计）人： | H·H·M·考克斯;P·C·H·德威特;A·J·登博夫;A·H·凯沃特斯;J·V·奥弗坎普;F·范德梅尤伦;J·C·G·范德桑登 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 王茂华;张宁 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种光刻设备包括被被配置为投影图案化辐射束以在被保持在衬底台上的衬底上形成曝光区域的投影系统。光刻设备进一步包括加热设备，包括被配置为提供在曝光期间照射并加热衬底一部分的额外的辐射束的一个或多个辐射源。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 | ||
【主权项】：
1.一种光刻设备，包括投影系统，所述投影系统被配置为投影图案化辐射束以在衬底上形成曝光区域，所述衬底被保持在衬底台上，其中所述光刻设备进一步包括加热设备，所述加热设备包括被配置为提供一个或多个额外的辐射束的一个或多个辐射源，所述一个或多个额外的辐射束在曝光期间照射并且加热所述衬底的一部分。
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